平面平晶簡單的說就是：光在平晶表面反射和被測表面反射回來的光線形成干涉現(xiàn)象。由于被測表面平面度的影響，干涉光線的光程差不同，因此形成干涉條紋。通過測量干涉條紋的彎曲量并計算可得被測樣品的平面度。平面平晶特別適用于計量單位、實驗室作為標準平面和樣板。

  平面平晶工作原理：

  是以光波干涉原理為基礎，利用平晶的測量面與試件的被測量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來測量被測量面的平面度。

  測量時，先使平晶邊緣輕輕地與被測表面接觸，逐漸使整個表面接觸，再調(diào)整平晶使與被測表面之間保持一微小夾角，直到出現(xiàn)清晰的干涉條紋為止。如干涉條紋很密而調(diào)整平晶位置又不能使干涉條紋的間距加寬，則說明被測表面或平晶上有微塵或其他雜物，應清洗。

  平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測量面、工作面的平面度。亦可用于檢定的平面零件，例如，平面光學零件、平臺、平板、導軌、密封件等。