鎢W拋光液作用: 吉致電子鎢W拋光液適用于8-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO2水溶膠為磨料，拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少。與國(guó)內(nèi)外同類產(chǎn)品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特點(diǎn).

無(wú)錫吉致電子科技有限公司主要研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品為：拋光液、拋光墊等CMP化學(xué)機(jī)械研磨拋光材料，已有20余年的研發(fā)經(jīng)驗(yàn)。 產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于金屬、光電、集成電路半導(dǎo)體、陶瓷、硬盤(pán)面板顯示器等材質(zhì)的表面深度處理，目前已發(fā)展為集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的現(xiàn)代工業(yè)科技企業(yè)?，F(xiàn)已同多家500強(qiáng)企業(yè)建立合作伙伴關(guān)系，現(xiàn)員工已經(jīng)達(dá)上百人，公司占地面積30.5畝，廠房面積約24000平方米。 產(chǎn)品質(zhì)量管理執(zhí)行ISO質(zhì)量管理體系標(biāo)準(zhǔn)要求，嚴(yán)格管控每一環(huán)節(jié)。吉致公司采用技術(shù)，提供超高質(zhì)量的產(chǎn)品，有效提高客戶所需要的高選擇比、高移除率、高平坦度、低缺陷要求。

無(wú)錫吉致電子25年研發(fā)生產(chǎn)——鎢拋光液/W CMP Slurry/W 拋光液/半導(dǎo)體研磨液/CMP拋光液/化學(xué)機(jī)械拋光液/CMP化學(xué)機(jī)械拋光液slurry/CMP集成電路拋光液

鎢W拋光液作用: 吉致電子鎢W拋光液適用于8-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO₂水溶膠為磨料，拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少。與國(guó)內(nèi)外同類產(chǎn)品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特點(diǎn).

我司產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)： 

1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均勻，不團(tuán)聚，軟硬度適中，有效避免拋光過(guò)程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷缺陷。

3.運(yùn)用拋光過(guò)程中的化學(xué)新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時(shí)降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。

5.無(wú)粉塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全。

可定制化：我們的拋光液可以根據(jù)客戶需求定制不同的PH、粒徑、濃度、穩(wěn)定離子等。

包裝方式：25KG/桶(也可依客戶需求)

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