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價(jià)格：電議
所在地：北京
型號：CS系列
更新時(shí)間：2019-07-01
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公司地址：北京通州區(qū)永順翠福園8號樓
夏佳麗(女士) 經(jīng)理
電化學(xué)工作站 (單測量通道)CS系列
CS電化學(xué)工作站采用全浮地式設(shè)計(jì)，具有出色的穩(wěn)定性和度，的硬件和功能完善的軟件，為涉及能源、材料、生命科學(xué)、環(huán)保等領(lǐng)域的科技工作者提供了的科研平臺。
具體應(yīng)用于：
（1）電合成、電沉積（電鍍）、陽氧化、電解等反應(yīng)機(jī)理研究；
（2）電化學(xué)分析研究；
（3）能源材料（鋰離子電池、太陽能電池、燃料動力電池和超級電容器等）、功能材料以及傳感器的性能研究；
（4）金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評價(jià)；
（5）緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰保護(hù)效率的快速評價(jià)。
硬件特點(diǎn)
●雙通道相關(guān)分析器和雙通道高速16bit/24bitAD轉(zhuǎn)換器
●內(nèi)置FRA頻響分析儀，頻率范圍10μHz~1MHz
●高帶寬高輸入阻抗的放大器
●內(nèi)置FPGADDS信號合成器
●高功率恒電位儀/恒電流儀/零電阻電流計(jì)
●電壓控制范圍：±10V，槽壓為±21V（可擴(kuò)展至±200V）
●電流控制范圍：±2.0A（可擴(kuò)展至20A）
●電位分辨率：10μV，電流分辨率：10pA（可延伸至100fA）
軟件特點(diǎn)
①數(shù)據(jù)分析
伏安曲線的平滑、積分和微分運(yùn)算，計(jì)算各氧化還原峰的峰電流、峰電位和峰面積等；
化曲線的三參數(shù)或四參數(shù)動力學(xué)解析，計(jì)算Tafel斜率ba，bc，腐蝕電流密度icorr，限擴(kuò)散電流、化電阻Rp和腐蝕速率等，還可由電化學(xué)噪聲譜計(jì)算功率譜密度、噪聲電阻Rn和譜噪聲電阻Rsn(f)。
②實(shí)時(shí)存儲
CorrTest實(shí)時(shí)存儲測量數(shù)據(jù)，即使因斷電導(dǎo)致測試中斷，中斷之前的數(shù)據(jù)也會自動保存。
③定時(shí)測量
CorrTest測試軟件具有定時(shí)測量功能，對于某些需要研究體系隨時(shí)間變化特征時(shí)，可提前設(shè)好測試參數(shù)與間隔時(shí)間，讓儀器在無人值守下自動定時(shí)測量，為實(shí)驗(yàn)提供方便。
技術(shù)
①交流阻抗
儀器采用相關(guān)積分算法和雙通道同步過采樣技術(shù)，具有較強(qiáng)的抗干擾能力，尤其適合于涂層、混凝土等高阻體系（>109Ω）的交流阻抗測量，也可用于Mott-Schottky曲線和微分電容曲線繪制。軟件能實(shí)時(shí)顯示開路電位，用戶無需輸入，即可輸出準(zhǔn)確的化過電位。
②化曲線
具有線性化和Tafel化曲線測量功能，用戶可設(shè)定循環(huán)化曲線的陽回掃電流（鈍化膜擊穿電流），來確定材料的點(diǎn)蝕電位和保護(hù)電位，評價(jià)晶間腐蝕敏感性。軟件采用非線性擬合算法解析化曲線，可用于材料耐蝕性和緩蝕劑性能的快速評價(jià)。
6063鋁合金在含Ce3+的3%NaCl溶液中的EIS鈦基非晶態(tài)合金和不銹鋼在3%NaCl溶液
中的動電位化曲線，掃描速率為1mV/s
③伏安分析
能完成線性掃描伏安（LSV）、循環(huán)伏安（CV）、階梯伏安（SCV）、方波伏安（SWV）、差分脈沖伏安（DPV）、交流伏安（ACV）、溶出伏安等多種電分析方法，集成峰面積、峰電流計(jì)算和標(biāo)準(zhǔn)曲線分析功能。
聚吡咯超級電容器在0.5mol/LH2SO4鉑電在3mmol/LK4[Fe(CN)6]+0.4mol/LKCl
溶液中的CV曲線溶液中的CV曲線（100mV/s）
④電化學(xué)噪聲
采用高阻跟隨器和零阻電流計(jì)測量腐蝕體系自發(fā)的電位與電流波動，可用于點(diǎn)蝕、電偶腐蝕、縫隙腐蝕和應(yīng)力腐蝕開裂等局部腐蝕研究。通過噪聲譜分析，可評估亞穩(wěn)態(tài)蝕點(diǎn)或裂紋的誘導(dǎo)、生長和死亡過程。基于噪聲電阻和點(diǎn)蝕指數(shù)計(jì)算，也可用于局部腐蝕監(jiān)測。
⑤功率擴(kuò)展
CS系列電化學(xué)工作站的電流控制范圍為±2.0A，槽壓輸出≥21V，可滿足燃料動力電池、大功率電池充放電、電化學(xué)電解或電沉積等領(lǐng)域的需求。采用專用的功率擴(kuò)展器，zui大輸出電流可達(dá)20A，槽壓±200V。
⑥全浮地測量
CS系列電化學(xué)工作站采用全浮地式工作電，可用于工作電本身接地體系的電化學(xué)研究，如用于高壓釜電化學(xué)測試（釜體接地），大地中金屬構(gòu)件（橋梁、混凝土鋼筋）的在線腐蝕研究等。
⑦光電測試模塊
CS電化學(xué)工作站可以與光強(qiáng)計(jì)、分光光度計(jì)聯(lián)用，用于光電化學(xué)測量，在進(jìn)行電化學(xué)測量的同時(shí)記錄光電流或光譜響應(yīng)信號。
⑧自定義方法
支持用戶自定義組合測量，用戶可以設(shè)定定時(shí)循環(huán)進(jìn)行某一測試方法或多種方法的組合測試，用于無人值守下的定時(shí)自動測量；
提供API通用接口函數(shù)和開發(fā)實(shí)例，方便用戶二次開發(fā)和自定義測試方法；
提供用戶自定義腳本編寫范例，用于實(shí)現(xiàn)您獨(dú)特的電化學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)。
硬件參數(shù)指標(biāo)
* 光電測量功能用戶選配。
* 產(chǎn)品3年質(zhì)保。
儀器配置
1）儀器主機(jī)1臺
2）CorrTest測試與分析軟件1套
3）專用電解池（含鹽橋和排氣管）1套
4）輔助、參比、工作電各1支
5）模擬電解池1個(gè)
6）電源線/USB數(shù)據(jù)線各1條
7）電電纜線1條
8）電架（選配 *）
9）屏蔽箱（選配 *）
10）電腦（選配 *）
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恒電位控制范圍：±10V |
恒電流控制范圍：±2.0A |
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電位控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV |
電流控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù) |
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電位靈敏度：10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz) |
電流靈敏度：<10pA |
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電位上升時(shí)間：﹤1μS(<10mA),<10μS(<2A) |
電流量程：2A～200nA, 共8檔 |
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參比電輸入阻抗：1012Ω||20pF |
zui大輸出電流：2.0A |
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槽壓輸出：±21V （可擴(kuò)展至±200V) |
電流掃描增量：1mA @1A/mS |
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CV和LSV掃描速度：0.001mV～10000V/s |
電位掃描電位增量：0.076mV @1V/mS |
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CA和CC脈沖寬度：0.0001～65000s |
DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～1000s |
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SWV頻率：0.001～100KHz |
CV的zui小電位增量：0.075mV |
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AD數(shù)據(jù)采集：16bit@1MHz，20bit @1KHz |
電流與電位量程：自動設(shè)置 |
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DA分辨率：16bit，建立時(shí)間：1μS |
低通濾波器 ：8段可編程 |
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通訊接口：USB2.0 |
儀器重量：6.5Kg |
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外形尺寸（cm）：36.5(W)X30.5 (D)X16 (H) |
電化學(xué)阻抗測量指標(biāo)
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信號發(fā)生器 |
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頻率響應(yīng)：10μHz～1MHz |
交流信號幅值：1mV～2500mV |
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頻率度：0.005% |
信號分辨率：0.1mV RMS |
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DDS輸出阻抗：50Ω |
直流偏壓：-10V～+10V |
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正弦波失真率：<1% |
波形：正弦波，三角波，方波 |
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掃描方式：對數(shù)/線性，增加/下降 |
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信號分析器 |
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zui大積分時(shí)間：106個(gè)循環(huán)或者105S |
測量時(shí)間延遲：0～105秒 |
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zui小積分時(shí)間：10mS 或者一個(gè)循環(huán)的長時(shí)間 |
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直流偏置補(bǔ)償 |
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電位補(bǔ)償范圍：-10V～+10V |
電流補(bǔ)償范圍：-1A～+1A |
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帶寬調(diào)整：自動或手動設(shè)置, 共8級可調(diào) |
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CS單通道系列不同型號功能方法比較
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功能方法 |
CS120 |
CS150 |
CS300 |
CS310 |
CS350 |
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穩(wěn)態(tài)化 |
開路電位測量（OCP） |
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恒電位化（i-t曲線） |
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恒電流化 |
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動電位掃描（TAFEL曲線） |
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動電流掃描（DGP） |
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暫態(tài)化 |
任意恒電位階梯波 |
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任意恒電流階梯波 |
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恒電位階躍（VSTEP） |
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恒電流階躍（ISTEP） |
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計(jì)時(shí)分析 |
計(jì)時(shí)電位法（CP） |
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計(jì)時(shí)電流法（CA） |
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計(jì)時(shí)電量法（CC） |
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伏安分析 |
線性掃描伏安法（LSV） |
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線性循環(huán)伏安法（CV） |
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階梯循環(huán)伏安法（SCV） |
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方波伏安法（SWV） |
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差分脈沖伏安法（DPV） |
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常規(guī)脈沖伏安法（NPV） |
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常規(guī)差分脈沖伏安法（DNPV） |
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交流伏安法（ACV） |
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二次諧波交流伏安（SHACV） |
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傅立葉變換交流伏安（FTACV） |
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溶出伏安 |
恒電位溶出伏安 |
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線性溶出伏安 |
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階梯溶出伏安 |
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方波溶出伏安 |
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交流阻抗 |
電化學(xué)阻抗（EIS）～頻率掃描 |
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電化學(xué)阻抗（EIS）～時(shí)間掃描 |
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電化學(xué)阻抗（EIS）～電位掃描（Mott-Schottky曲線） |
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腐蝕測量 |
循環(huán)化曲線（CPP） |
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線性化曲線（LPR） |
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動電位再活化法（EPR） |
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電化學(xué)噪聲（EN） |
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電偶腐蝕測量（ZRA） |
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氫擴(kuò)散測試（HDT）* |
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電池測量 |
電池充放電測試 |
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恒電流充放電 |
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光電測量 |
電致調(diào)光測量 * |
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光譜儀測量 * |
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擴(kuò)展測量 |
盤環(huán)電測試 * |
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數(shù)字記錄儀 |
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波形發(fā)生器 |
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圓盤電機(jī)控制 |
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注： * 氫擴(kuò)散及旋轉(zhuǎn)盤環(huán)電測試需配置CS1002恒電位/恒電流儀或采用CS2350雙恒電位儀。
免責(zé)聲明：以上所展示的[CS系列 電化學(xué)工作站 (單測量通道)]信息由會員[北京金時(shí)速儀器設(shè)備經(jīng)營部 ]自行提供，內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布會員負(fù)責(zé)。
