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RISUN 氧化硅窗口

上海昭沅儀器設(shè)備有限公司
會員指數(shù): 企業(yè)認(rèn)證:  

價格:電議

所在地:上海

型號:RISUN

更新時間:2024-04-16

瀏覽次數(shù):1257

公司地址:上海國權(quán)路525號

孔昭蘋(先生)  

產(chǎn)品簡介

相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更適合用于含氮樣本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,則會與樣本造成混淆。許多研究納米微粒,特別是含氮納米微粒的人員發(fā)現(xiàn)此種薄膜窗格在他們實驗中不可缺少。? SEM應(yīng)用中,薄膜背景不

公司簡介

 

上海昭沅儀器設(shè)備有限公司專業(yè)致力于銷售各種高端科研儀器,代理世界一流公司的表面測試及表面處理等產(chǎn)品,公司擁有一批經(jīng)驗豐富的銷售人員和技術(shù)人員組成,著重為各高校,研究所等單位提供集產(chǎn)品、應(yīng)用和服務(wù)于一體的整體解決方案! 

      公司重點致力于大專院校、科研院所實驗和企業(yè)生產(chǎn)所需的各種表面處理設(shè)備、表面形貌測試儀器及相關(guān)電鏡耗材的銷售和技術(shù)推廣。
    公司擁有完善的銷售網(wǎng)絡(luò)和雄厚的技術(shù)力量,始終致力于提供安全、穩(wěn)定、高性能的實驗儀器設(shè)備及專業(yè)產(chǎn)品,為您提供快速、滿意的安裝和售后服務(wù)。
展開

產(chǎn)品說明

 X射線用氧化硅薄膜窗

RISUN推出二氧化硅薄膜窗系列產(chǎn)品。與氮化硅相比,氧化硅更易遭受化學(xué)侵蝕,且堅固性更差。但在X-射線顯微鏡中,由于沒有N原子存在而倍受青睞。

氧化硅與氮化硅薄膜窗比較:

相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更適合用于含氮樣本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,則會與樣本造成混淆。

RISUN氧化硅薄膜窗特點

許多研究納米微粒,特別是含氮納米微粒的人員發(fā)現(xiàn)此種薄膜窗格在他們實驗中不可缺少。

·         SEM應(yīng)用中,薄膜背景不呈現(xiàn)任何結(jié)構(gòu)和特點。

·         X射線顯微鏡中,裝載多個分析樣的方法。

·         無氮

  

RISUN氧化硅薄膜窗規(guī)格

單窗口系列

薄膜厚度

窗口尺寸

框架尺寸

型號

50-200nm

1.5X1.5mm

5.05.0mm

RISUN

50-200nm

2.5X2.5mm

7.5X7.5mm

50-200nm

3.03.0mm

1010mm

50-200nm

5.05.0mm

1010mm

硅片厚度:200um、381um、525um;

 

多窗口系列

薄膜厚度

窗口尺寸

框架尺寸

型號

50nm

2x2陣列,1.5X1.5mm

5.05.0mm

RISUN

50nm

3x3陣列,1.5X1.5mm

7.5X7.5mm

100nm

4x4陣列,1.5X1.5mm

1010mm

硅片厚度:200um、381um、525um;

 

定制系列

可根據(jù)用戶需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。

本產(chǎn)品為一次性產(chǎn)品,不建議用戶重復(fù)使用;本產(chǎn)品不能進(jìn)行超聲清洗,適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗。
 

應(yīng)用簡介

實際上,RISUN氧化硅薄膜應(yīng)用范圍非常廣,但所有應(yīng)用都有無氮要求(因樣本中有氮存在):

1. 惰性基片可用于高溫環(huán)境下,通過TEM、SEM或AFM(某些情況下)對反應(yīng)進(jìn)行動態(tài)觀察。

2. 作為耐用(如“強(qiáng)力”)基片,先在TEM下,然后在SEM下對同一區(qū)域進(jìn)行“匹配”。

3. 作為耐用匹配基片,對AFM和TEM圖像進(jìn)行比較。

4. 聚焦離子束(FIB)樣本的裝載。

5.用作Ti、V、Mo等濾光器基質(zhì);用于X-射線光學(xué)設(shè)備中,如分光器。


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